Liqui-Cel

マイクロエレクトロニクス / フラットパネル

技術短信

技術短信(TB)72:中国の水処理装置で、二段RO装置からRO+リキセル®分離膜コンタクター装置で最適化を図る
この技術短信は、水処理装置の中で二段RO装置をどのようにRO+リキセル分離膜の組み合わせで最適化するかをケーススタディーします。

技術短信(TB)68:リキセル®分離膜コンタクター(脱気モジュール)装置と従来技術の脱炭酸塔とのコスト比較
この技術短信は、二酸化炭酸除去における従来技術である脱炭酸塔との性能及び運転コストを比較します。それから膜による脱気技術が、脱酸素や脱炭酸における経済的で付加価値のある技術であることを証明します。

技術短信(TB) 46:脱気膜によるEDI性能向上
リキセル® 脱炭酸膜は一般的に、RO後段及びEDI前段で二酸化炭素を除去し、EDIの性能を向上します。

技術短信(TB)44:溶存酸素水と窒素水の微細な調整
半導体ウエハーの洗浄用途において酸素及び酸素及び窒素を正確に制御。

技術短信(TB)37: 脱炭酸塔との比較
脱炭酸塔とリキセル® の二酸化炭素除去技術を比較します。

技術短信(TB)33:IMECによる脱酸素3 ppbケーススタディー
酸素3 ppbケーススタディー半導体研究施設において、リキセル®によって水から酸素を3ppbまで脱気するのに活用されています。

技術短信 (TB) 24:スーパーフォビック®を使用したフォトレジストの
バブル除去(脱気・脱泡)フォトレジストからのバブル除去及びスーパーフォビック脱気膜の持つ特徴

技術短信(TB)19:逆浸透膜(RO)や電気再生式イオン交換(脱塩)装置(EDI)の出口水質の改善
リキセル®による水中からの二酸化炭素除去により、RO-EDIシステムの性能が向上します。

技術短信(TB)17:脱炭酸
炭素を除去する化学反応が理解できます。

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詳細

アプリケーションに合った製品をお探しですか?ご覧になれる全ての リキセル® 分離膜コンタクターの 技術資料をお読みください。

マイクロエレクトロニクス業界では、半導体のウエハー製造過程に使用される脱塩水から酸素と二酸化炭素を除去するために、リキセル®分離膜モジュールが15年以上使用されています。 リキセル脱気膜は、容易に酸素を1ppbまで除去し、二酸化炭素を1ppmまで除去することができます。

半導体ウエハー及びフラットパネルディスプレイは、層がフォトレジスト露光を受けたり現像されたりする複数の工程を通過します。 各層が処理される際に、ウエハーから排出される残渣物質を超純水で洗い流します。 水中にガスが存在する場合は、ウエハー表面に付着し欠陥を生じる可能性があります。

EDI/CDIは半導体産業におけるイオン交換の一般的な技術となりました。 これらの技術は、最初に水中から二酸化炭素が除去されるとより効果的になります。 水中の余分な二酸化炭素はEDIに吸着し、必要以上にEDIを設ける必要がでてきます。 又、二酸化炭素はシリカやヨウ素に作用し、EDI/CDI技術に負荷を与えます。

リキセル分離膜は清潔で非常に少ない溶出物しか出ないため、又水質にマイナスの影響を及ぼさないため、マイクロエレクトロニクス及びフラットパネル産業における標準的な脱気技術となりました。 従来の真空脱気塔と比べて10倍の表面積を持ち、コンパクトなボディーは建物のあらゆる場所に設置可能です。 真空脱気塔ではないモジュラータイプなので、工場仕様の変化と共に変更・増設できます。 必要水量が増えたり、酸素条件がしびあでも、ニーズに合わせて分離膜を装置に加えることができます。

分離膜は15年以上もの間産業界で愛用されています。

 

 

出版物

UltraPure Water: Systems for Microelectronics
従来の真空脱気塔に替わり新設の半導体工場の脱気及び脱酸素技術として使用されるリキセル®分離膜コンタクター(脱気膜)についてです。

Membrane Processing for Water Treatment in the Semiconductor Industry
脱気膜による300mmウェーハー半導体処理における酸素仕様の下限を説明します。

Lessons Learned: The Installation of a 300 to 600 gpm Semiconductor High-Purity Water System
VLSI社で使用される技術について説明します。 リキセル分離膜モジュールが真空脱気塔に替わって使用される利点などについて注目しています。

Meeting Water Quality Specifications for 300 mm Processing
現在までの歴代300mm処理用UPWの仕様を振り返っています。 更に新たな仕様に見合うために使用されるリキセル® 分離膜コンタクターを含む最新技術について説明します。

Membrane Contactors: An Introduction To The Technology
分離膜技術の概要が掲載されています。 分離膜による処理と物質移動の原理が説明されています。

Membrane Processing for Water Treatment in the Semiconductor Industry
ここでは、脱気薄膜による300mm半導体処理における酸素仕様の下限を示します

Using Membrane Contactors For CO2 Removal To Extend Resin Bed Life
二酸化炭素を除去する際、イオン交換樹脂の延命、オペレーションコストを削減、及び薬品使用を減らすために脱炭酸塔に替わり脱気膜を選定しました。